基本信息出版社：大连理工大学出版社
页码：542 页
出版日期：2008年06月
ISBN：9787561141380
条形码：9787561141380
版本：第1版
装帧：平装
开本：16
正文语种：中文

内容简介 本书详细介绍了现代半导体工业中半导体材料和器件的表征技术，基本上覆盖了所有的电学与光学测试方法，以及非常专业的与半导体材料相关的物理和化学测试方法。作者不但论述了测量中的相关物理问题及半导体材料与器件的参数的物理起源和物理意义，还将自己和他人的经验凝结其中，并给出了具体测量手段，同时指出不同手段的局限性和测量注意事项。
作者简介 DIETER K.SCHRODER 是亚利桑那州立大学电子工程系教授，亚利桑那州立大学工程学院教学杰出贡献奖获得者，曾著《现代MOS器件》一书。
目录
第1章 电阻率
1.1 简介
1.2 两探针与四控针
练习 1.1
1.2.1 修正因子
练习 1.2
练习 1.3
练习 1.4
1.2.2 任意形状样品的电阻率
1.2.3 测量电路
1.2.4 测量偏差和注意事项
1.3 晶片映像
1.3.1 二次注入
1.3.2 调制光反射
1.3.3 载流子发射(CI)
1.3.4 光密度测定法
1.4 电阻率分布
1.4.1 微分霍耳效应—HE)
练习1.5
1.4.2 扩展电阻剖面分布（SRP)
1.5 非接触方法
1.5.1 涡流
1.6 电导率类型
1.7 优点和缺点
附录1.1 以掺杂浓度为函数的电阻率
附录1.2 本征载流子浓度
习题
参考文献
第2章 载流子和掺杂浓度
第3章 接触电阻、肖特基势垒及电迁移
第4章 串联电阻、沟道长度与宽度、阈值电压及热载流子
第5章 缺陷
第6章 氧化物、界面陷阱电荷及氧化物完整性
第7章 载流子寿命
第8章 迁移率
第9章 光学表征
第10章 物理化学我的表征
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