基本信息出版社：科学出版社
页码：585 页
出版日期：2007年03月
ISBN：9787030186591
条形码：9787030186591
版本：第1版
装帧：平装
开本：16开

内容简介 　　本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理，以及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。
　　本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员，以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
作者简介 　　迈克尔A力伯曼，博士，加利福尼亚大学伯克利分校电子工程研究生院教授，曾发表170多篇有关等离子体、等离子体材料处理和非线性动力学方面的研究论文，而且同里登伯格教授合著有Regular and Stochastic Motion和Regular and Chaotic Dynamics（第二版）。
编辑推荐 　　本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理，以及工业等离子体材料处理的原理，并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积，离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用，反映本领域的最新研究进展。全书共18章，内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体，以及气体放电的动理论等。
　　本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员，以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
目录
第1章　概述
　1.1　材料处理
　1.2　等离子体和鞘层
　　1.2.1　等离子体　
　　1.2.2　鞘层　
　1.3　放电
……