基本信息出版社：化学工业出版社
页码：409 页
出版日期：2007年01月
ISBN：7502595210
条形码：9787502595210
版本：第1版
装帧：平装
开本：32开

内容简介 　　本书是《镀镍技术丛书》之一。
　　本书简要介绍了光亮镀镍的原理、光亮镍层的性能和一般工艺，对镀镍光亮剂、双层和多层光亮镀镍、低浓度低温以及深孔、滚镀工艺条件下的光亮镀镍工艺进行了详细介绍。本书立足于提高镀镍的技术水平，既适应生产第一线的操作人员、工程技术人员的需求，又满足于科技人员探讨某些较深层次的理论问题的需要。
编辑推荐 　　本书是《镀镍技术丛书》之一。
　　本书简要介绍了光亮镀镍的原理、光亮镍层的性能和一般工艺，对镀镍光亮剂、双层和多层光亮镀镍、低浓度低温以及深孔、滚镀工艺条件下的光亮镀镍工艺进行了详细介绍。本书立足于提高镀镍的技术水平，既适应生产第一线的操作人员、工程技术人员的需求，又满足于科技人员探讨某些较深层次的理论问题的需要。
目录
第1章光亮镀镍工艺和镀层
　1.1 概述
　1.2 光亮镀镍溶液组成及工艺条件
　1.3 光亮镀镍溶液的配制
　1.4 光亮镀镍溶液的维护
　1.5 光亮镀镍的电沉积理论
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